Hexachlordisilan

Hexachlordisilan
Strukturní vzorec
Strukturní vzorec
Obecné
Systematický názevhexachlordisilan
Funkční vzorec(SiCl3)2
Sumární vzorecSi2Cl6
Vzhledbezbarvá kapalina
Identifikace
Registrační číslo CAS762-04-9
PubChem83497
SMILESO(P(OCC)OCC)CC
InChI1S/C6H15O3P/c1-4-7-10(8-5-2)9-6-3/h4-6H2,1-3H3
Vlastnosti
Molární hmotnost268,89 g/mol
Teplota tání−1 °C (272 K)
Teplota varu144 °C (417 K)
Bezpečnost
GHS02 – hořlavé látky
GHS02
GHS05 – korozivní a žíravé látky
GHS05
[1]
Nebezpečí[1]
H-větyH225 H314[1]
P-větyP210 P233 P240 P241 P242 P243 P261 P264 P280 P301+330+331 P303+361+353 P304+340 P305+351+338 P310 P321 P363 P370+378 P403+235 P405 P501[1]
Není-li uvedeno jinak, jsou použity
jednotky SI a STP (25 °C, 100 kPa).
Některá data mohou pocházet z datové položky.

Hexachlordisilan je anorganická sloučenina se vzorcem Si2Cl6.[2] Jedná se o bezbarvou, na vzduchu dýmavou kapalinu. Používá se na přípravu křemíku a jeho sloučenin.

Struktura a příprava

Hexachlordisilan má strukturu podobnou ethanu, délka vazby Si-Si je 233 pm.[3]

Připravuje se chlorací silicidů, jako je například silicid vápenatý. Reakce probíhá podle této rovnice:[4]

CaSi2 + 4 Cl2 → Si2Cl6 + CaCl2

Reakce a použití

Na vzduchu a v dusíkové atmosféře je hexachlordisilan po několik hodin stabilní i při 400 °C, ovšem za přítomnosti Lewisových zásad se i při pokojové teplotě rozkládá na dodekachlorneopentasilan a chlorid křemičitý:[5]

4 Si2Cl6 → 3 SiCl4 + Si5Cl12

Tato přeměna se využívá při výrobě křemíkových polovodičů, využívaných například ve fotovoltaických článcích.[2]

Hexachlordisilan je také možné použít k deoxygenačním reakcím, jako je následující obecná reakce s využitím fosfinoxidu:

2 Si2Cl6 + OPR3 → OSi2Cl6 + PR3

Reference

V tomto článku byl použit překlad textu z článku Hexachlorodisilane na anglické Wikipedii.

  1. ↑ a b c d Hexachlorodisilane. pubchem.ncbi.nlm.nih.gov [online]. PubChem [cit. 2021-05-24]. Dostupné online. (anglicky) 
  2. ↑ a b Simmler, W. "Silicon Compounds, Inorganic", Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Weinheim: Wiley-VCH. DOI:10.1002/14356007.a24_001
  3. ↑ T.L. Cottrell, "The Strengths of Chemical Bonds," 2nd ed., Butterworths, London, 1958
  4. ↑ E. S. M. Seo; M. Andreoli; R. Chiba. Silicon tetrachloride production by chlorination method using rice husk as raw material. Journal of Materials Processing Technology. 2003, s. 351. DOI 10.1016/S0924-0136(03)00287-5. 
  5. ↑ Emeleus, H. J. and Muhammad Tufail. "Reaction of Hexachlorodisilane with Bases and Alkyl Halides." Journal of Inorganic and Nuclear Chemistry 29.8 (1967): 2081-084

Externí odkazy

Média použitá na této stránce