Electron beam-induced deposition (schematic)

(c) Materialscientist na projektu Wikipedie v jazyce angličtina, CC BY-SA 3.0

Autor:

Materialscientist

Shortlink:

https://czwiki.cz/b/c4576

Zdroj:

Wikimedia Commons

Formát:

689 x 475 Pixel (29599 Bytes)

Popis:

Schematic of electron beam induced deposition process

Licence:

CC BY-SA 3.0

Credit:

Own work by the original uploader

Sdílet obrázek:

         

Více informací o licenci na obrázek naleznete zde. Poslední aktualizace: Sat, 21 Oct 2023 11:36:16 GMT

Relevantní obrázky

Relevantní články

Depozice indukovaná elektronovým paprskem (EBID) je proces, při kterém se molekuly plynu rozkládají působením paprsku elektronů a dochází k ukládání netěkavých látek na pevné povrchy. Zdrojem paprsku elektronů obvykle bývá rastrovací elektronový mikroskop, díky čemuž se dosahuje vysoké prostorové přesnosti a lze vytvořit nepohybující se trojrozměrné struktury. .. pokračovat ve čtení