RF naprašování
Autor:
Přisuzování:
Obrázek je označen jako „Vyžadováno uvedení zdroje“ (Attribution Required), ale nebyly uvedeny žádné informace o přiřazení. Při použití šablony MediaWiki pro licence CC-BY byl pravděpodobně parametr atribuce vynechán. Autoři zde mohou najít příklad pro správné použití šablon.
Shortlink:
Zdroj:
Formát:
1633 x 1632 Pixel (28921 Bytes)
Popis:
Je-li target záporně nabitý, ionty jsou k němu přitahovány. Je-li target kladně nabitý, jeho potenciál je odstíněn elektrony.
Licence:
Credit:
Vlastní dílo
Sdílet obrázek:
Relevantní obrázky
Relevantní články
NaprašováníNaprašování řadíme spolu s napařováním do technologií fyzikální depozice par, jež jsou souhrnně označovány jako PVD. Na rozdíl od napařování se však jedná o plazmový proces. .. pokračovat ve čtení